【芯源微成国内唯一量产型中高端涂胶显影设备供应商，国产替代前景广阔】 光刻工序在集成电路制造中至关重要，占产线50%时间和30%成本，也是国产设备替代率最低环节，前道光刻机国产替代率不足3%，前道涂胶显影设备国产替代率不足10%。 涂胶显影机是光刻工序三大要素之一，芯源微立足自主研发，成为国内唯一可提供量产型中高端涂胶显影设备的企业。2002年创立，2019年在上交所科创板上市，现是国内涂胶显影细分领域龙头。 芯源微在国产替代路上挑战重重，涂胶显影设备复杂，要与光刻机联机作业，且日系设备高度垄断。但随着研发推进，其将加速国产替代。 国产替代率低带来大发展空间，芯源微前道设备覆盖28纳米以上工艺节点，前道物理清洗设备达国际先进水平，市占率第一；化学清洗设备聚焦先进制程。后道封装领域产品市占率超50%，还布局新兴领域。 宗润福称，沈阳有产业基础和配套优势，人才稳定且有工匠精神，在政府支持下，零部件与半导体装备有影响力。 芯源微坚定自主研发，研发费用多年超营收10%，2024年研发投入2.97亿元，同比增近50%，技术突破将转化为市场成果。
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（责任编辑:郭健东）