国产28nm immersion式光刻机即将量产！国内厂商在光刻机零部件市场上实现多个环节的突破，如茂莱光学的DUV光学透镜已应用于SMEE国产光刻机中。虽然国产光刻机技术节点与国际厂商相比有差距，但上海微电子的SSX600系列光刻机已可用于制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层，而且即将交付国产第一台SSA/800-10W光刻机设备。这可能会对全球光刻机市场产生何种影响呢？ （责任编辑:王治强）