佳能推出其纳米压印半导体制造系统，试图通过将该技术定位为比现有最先进工具更简便、更易获取的替代方案，来重振其市场地位。
佳能设备也可能在美中贸易战中开辟一个新的战场，因为目前唯一可靠的制造5纳米及以下芯片的方法（EUV机器）被贸易制裁禁止进入中国。而纳米压印技术则完全省略了光刻过程，而是直接将所需的电路图案压印到硅片上。由于其创新性，它不太可能被现有的贸易限制所禁止。
事实上，纳米压印并不是新出现的技术，当下已经有非常成熟应用。在消费电子的触控模组、导光背光的应用有很多。
如今市场关注度比较高是把纳米压印技术应用于大尺寸触控、反光材料、光学膜等应用领域，把它应用于制造导光结构组件，即应用于背光的膜结构产品里。
EUV光刻技术以及利益集团
Gartner发布了2022年全球半导体销售排名前十名的初步数据。根据排名，继2021年之后连续第二年排名第一的是韩国三星电子，第二名是在微型化方面跌跌撞撞的美国英特尔，第三名是韩国SK海力士。
英特尔自1992年以来一直占据着第一的位置。自2011年以来，英特尔排名第一，三星电子排名第二，台积电排名第三。因此，这三家公司被称为“三巨头”（尽管SK Hynix在2018年仅一次超过台积电，排名第三）。
台积电在2018年第三季度开始生产7nm尖端半导体。而在2019年，它将世界上第一台最先进的EUV（极紫外光）光刻设备应用于7nm+的量产，这是7nm的改良版。在7nm+中，以孔等图案为中心，4-5层使用了EUV。此外，台积电在2020年第三季度开始量产5nm，该产品也使用EUV进行互连。据悉，应用的EUV层数已增加到约15层。
台积电营收惊人增长是由其对EUV的掌握和尖端半导体的大规模生产所推动的。事实上，即使从季度销售额来看，台积电在2019年第三季度之前从未超过100亿美元，之后其销售额激增，在2022年第三季度超过200亿美元。
ASML在曝光系统方面的全球市场份额占主导地位，约为95%。在其曝光系统中，最昂贵的EUV从一开始就卖得很火，所以销量飙升也不足为奇。
ASML的销售额激增是从2016年开始的，当时它开始批量生产EUV：从2016年的68亿欧元，到6年后的2022年，销售额增加了两倍多，达到212亿欧元。
另一方面，台积电从2019年开始，当EUV应用于7纳米以上的量产时，销售额将迅速增加；销售额从2019年的346.3亿美元增加到2022年的758.8亿美元，增长2.2倍。
同样受益于ASML的EUV光刻机的企业还有三星、intel。在EUV光刻机的加持下，台积电、三星、intel三家公司建立了晶圆制造绝对领先地位。
产能有限，ASML生产的EUV光刻机，也是优先供应给intel、台积电、三星这三家厂商，其他的厂商要等这三家厂商买剩了后，才可能会获得。
为什么ASML会优先卖给这intel、台积电、三星呢？第一是这三家厂商是大客户，有优待，第二则是这三家厂商是ASML的股东，所以当然要先照顾股东。
事实上，EUV光刻机技术是intel、台积电、三星协助ASML完成的大工程，在一定程度上说，这三家公司是EUV光刻机技术成功研发的大功臣。研发EUV光刻机时，ASML觉得投入太高，风险太大。于是intel、三星、台积电决定投钱给ASML，支持ASML研发EUV光刻机。
当下intel、三星、台积电和ASML在EUV光刻机领域是形成共同利益集团，四家巨头公司垄断半导体晶圆制造。
打破光刻技术垄断格局
日本为了重新站上半导体制造领域霸主地位。中国面对以美国为首的西方半导体强国的限制，当下在先进制程方面发展举步维艰，我国希望另辟蹊径绕过光刻机这一成熟技术，采用其他技术提升芯片制程。
当下，中国、日本两大半导体强国希望打破intel、三星、台积电和ASML利益集团，换道超车，重塑世界半导体版图。首先要击碎现有EUV光刻机独霸天下的局面，寻找EUV光刻机替代技术。从当下来看，纳米压印技术日益成熟，大有冲击EUV光刻机一家独大的局面，围绕纳米压印技术新的利益集团或现雏形。
目前纳米压印在半导体制程中应用最常见的应用领域就是LED芯片的PSS图形化制作，过去行业内PSS的环节制作过程是涂胶-曝光-显影（光刻胶），这里面需要使用光刻机，使用纳米压印技术的流程是：涂胶-纳米压印（UV胶）完成，省去曝光（光刻）机的采购。
兆驰股份(002429)是所有LED芯片厂中，唯一的不用光刻机做PSS，完全用纳米压印做PSS的厂商，其效果也非常明显，兆驰的PSS图形化成本能比别家便宜30%左右甚至更多，这也是兆驰全产业链布局节省成本提高利润率中非常重要的一环。
目前来看，LED芯片产业为了学习兆驰节省成本，在PSS制作环节使用纳米压印去替代光刻确实也是一个行业趋势。
国内其他的企业也不甘落后，华为旗下的天仁微纳已经实现了高精度的纳米压印设备量产，展现了中国厂商在这一领域的强大潜力。
广泛用于集成电路制造
据机构预测，到2022年，全球纳米压印技术市场规模将达到22.9亿美元。纳米压印技术已经广泛应用于传感器制造、光子芯片制造、3D集成电路制造等领域。存储芯片制造尤为突出，已经取得了重要突破并有望进一步发展。
纳米压印技术的突破意味着全球半导体产业将进入一个新的时代。首先，技术的普及将打破EUV光刻机市场的垄断格局，增加了光刻机市场的竞争，从而降低设备价格，提高技术水平。
其次，对于中国芯片产业而言，纳米压印技术的成功突破将摆脱对EUV光刻机的依赖，提高自主研发和生产能力。这将为中国芯片产业提供更大的发展空间，提升在全球芯片市场的竞争力。
最后，纳米压印技术的成功应用，将进一步推动中国芯片产业的独立创新能力。通过自主研发和应用纳米压印技术，中国厂商将能够满足国内市场对高精度芯片的需求，减少对进口设备和技术的依赖。这将极大地提升中国芯片产业的可持续发展能力，确保国家信息安全和自主经济发展的基础。
纳米压印能替代光刻机？
纳米压印技术能走入大众视野并不是没有道理的。相对于动辄几亿美金的光刻机来说，纳米压印技术的成本更低。而光刻机目前所能达到的精度一般在几十到几百纳米不等，再精细一点的可以达到7nm甚至5nm，但是相应地，造价成本也会大幅提高。
而纳米压印光刻机的制造成本只需要传统的光刻技术成本的60%，所耗费的电量更是只需要传统光刻机运行的10%。更重要的是，其工艺精度甚至可以达到2nm，这样的技术水平，不管放到哪个领域都有极大的发展前景。
当然目前的纳米压印技术还有很大的进步空间，也存在着一些比较明显的技术缺陷。一方面，压印技术对环境要求比较高，需要完全的无尘环境。纳米压印本身就是一项高精度的工作，任何细小的微尘都可能对压印结果造成影响。
此外，纳米压印技术是用光刻胶复制样本模型，如果控制不当，就会导致胶压得不均匀，会产生一些细微的误差。而且，在脱模的时候也会出现有不容易去除的底胶残留的现象。在这种情况下，不仅仅是复刻出来的模板没有办法使用，更重要的是还要处理作为样本的产品上的残留物，如果处理不当，极有可能造成样本没办法继续使用。这些都是压印技术所存在的问题。
目前我国纳米压印良品率甚至不到60%，而压印过程中用到的薄膜也是每5~6次就需要重新制作更换，这也会影响最终产品的效果。
纳米压印确实在半导体相关制程有应用，而且也比较成熟。但是从当下来看，在先进制程想要完全替代光刻机或需要很长时间发展。
其他或可替代光刻机的技术
电子束光刻——用电子束在硅片上进行雕刻，优点是精度高。
去年9月美国公司Zyvex Labs表示，他们推出了亚纳米分辨率的光刻系统Zyvex Litho 1，分辨率可以达到0.768nm，大约是两个硅原子的宽度，并且制造出了0.768nm的成品芯片。这就突破了EUV光刻机的极限了，采用的是EBL电子束光刻方式。
不过目前这种技术的缺点是产量很低，无法大规模制造芯片。EUV光刻机的效率就相当于印刷厂的排版印刷，电子束技术相当于手写，效率高下立判。
电子束光刻不适用于商业化，没办法跟EUV形成市场竞争。除非是能够在效率上提升，达到相同的良率有好的商业化应用技术路线，才有可能来追赶甚至颠覆EUV的路线。
俄罗斯，之前则公布了另外一种技术，那就是基于X射线的无掩膜式光刻。
这种技术与EUV光刻机，有两种不同之处。一是采用X射线，波长介于0.01nm至10nm之间，比13.5nm的极紫外线波长更小，从而精度更高。二是无掩膜，直接操纵X射线进行光刻，不需要提前制作掩膜。
不过俄罗斯目前并没有制造出成品芯片，也没有突破EUV光刻机的极限，还只是一个理论方向。
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（责任编辑:董萍萍）