半导体光掩膜供不应求 国内掩膜版行业景气有望持续
据消息人士称，韩国光掩膜制造商Toppan、Photronics和Dai Nippon Printing的工厂开工率均维持在100%，一些中国芯片公司甚至支付额外费用以缩短交货时间，可见半导体光掩膜短缺问题仍在继续。掩模版是光刻工艺中的关键耗材，对于光刻工艺的重要性不弱于光刻机、光刻胶。在集成电路领域，光掩模的功能类似于传统相机的“底片”，在光刻机、光刻胶的配合下，将光掩模上已设计好的图案，通过曝光和显影等工序转移到衬底的光刻胶上，进行图像复制，从而实现批量生产。
由此可以看出，半导体光掩膜在集成电路产业中的重要性。民生证券方竞研报指出，随着我国半导体产业占全球比重的逐步提升，我国半导体掩膜版市场规模也逐步扩大，国内掩膜版行业的景气度有望持续旺盛，厂商有望迎来业绩的高速增长。
与此同时，国内上市公司也在积极应对半导体光掩膜短缺问题。芯碁微装泛半导体直写光刻设备LDW系列光刻精度能够达到最小线宽350nm-500nm，能够满足线宽90nm-130nm制程节点的掩膜版制版需求。清溢光电已实现180nm工艺节点半导体芯片掩膜版的客户测试认证及量产，同步开展130nm-65nm半导体芯片掩膜版的工艺研发和28nm半导体芯片所需的掩膜版工艺开发规划。
可以看出，国内上市公司正在不断升级技术，以满足市场需求。随着我国半导体产业的不断发展，半导体光掩膜供不应求的局面或将持续，市场前景值得关注。
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半导体光掩膜供不应求，市场比抢红包还火爆！国内掩膜版行业景气度逆天，厂商迎来了业绩的“春天”。就像我在周末排队买芝士蛋糕，一旁的阿姨说：“这么好吃，买不到就算了，反正减肥也减不下来。”
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（责任编辑:董萍萍）